渋谷 猛久
シブヤ タケヒサ
- 教授
- 学位：博士（理学）
基本情報
所属
- 工学部 / 光?画像工学科
- 工学研究科 / 電気電子工学専攻
- 理系教育センター
詳細情報
研究キーワード
- 物理教育
- プラズマ物理学
- 光工学
- 薄膜
- ホログラフィー
研究分野
- ナノテク?材料 光工学、光量子科学
- 自然科学一般 数理物理、物性基礎
- 人文?社会 科学教育
論文
アモルファス二硫化ゲルマニウム膜の作製過程が銀のフォトドーピングに与える影響
偏光子と位相子の同期回転による ４検出器型偏光計の校正法の提案と評価
ゾル-ゲル成膜貴金属ナノ粒子分散MgF2 複合膜のSERS 特性
集光デバイス設計のための蛍光導光板の集光特性評価とシミュレーションモデルの構築
書籍等出版物
- Optical Materials and Applications, Chapter 6: Materials for Optical Thin Films
- Physical Properties and Data of Optical Materials
所属学会
- The international society for optics and photonics
- Optical Society of America
- 日本光学会
- 応用物理学会
共同研究?競争的資金等の研究課題
デタッチプラズマ生成でのアルファ粒子の影響と熱粒子制御法の開発
"部分"非接触プラズマの制御と熱輸送に関する研究
半導体レーザの自己混合効果を応用した光集積型速度計
光導波路への応用を目指したカルコゲナイドガラス膜中への金属の拡散過程の解明
シレナイト化合物を用いた記録材料の開発
イオンアシスト法を用いた薄膜の成長過程の研究
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お問い合わせ先
取材に関するお問い合わせ
学長室（広報担当）
Tel. 0463-63-4670（直通）